工业混合气体在半导体中的使用简写

用化学气相淀积的方式在选用的衬底上生长一层或多层材料所用的气体称为外延（生长）气体。

所谓外延就是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。

常用的硅外延气体有——硅烷、四氯化硅、二氯二氢硅等等。其主要作用于外延硅淀积、氧化硅膜淀积、氮化硅膜淀积，太阳能电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积等。